農業化学品、医薬中間体、電子材料等を製造する日本曹達（東京都千代田区）は14日、千葉県市原市の千葉工場で半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」の製造設備を増強すると発表した。

　「VP ポリマー（ポリパラヒドロキシスチレン）」は、半導体用のKrFフォトレジスト材料として使用されている。半導体の大容量化・高速化ニーズの高まりに伴うi線レジストのKrF化や、3次元NAND型メモリーの需要拡大などによりKrFフォトレジストの使用量は増加しており、同社製「VP ポリマー」のニーズが高まっている。

　今回、需要に対応するとともに安定的な供給体制を確保するために、「VP ポリマー」製造設備の生産能力増強を決定した。