昭和電工は8日、上海製造拠点の上海昭和電子化学材料有限公司（以下：SSE）が隣接地に第二工場用地を取得し、工場と危険物倉庫を建設すると発表した。

　新工場では、高純度N2O（亜酸化窒素）と高純度C4F8（オクタフルオロシクロブタン）を製造する。高純度N2Oは主に半導体やディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源として、高純度C4F8は主にその酸化膜の微細加工（エッチング）などに使用される特殊ガス。

　第5世代移動通信（5G）など情報通信分野の発展と中国政府による産業育成政策により、中国では今後も半導体やディスプレイ市場（有機ELテレビ等）の拡大が見込まれている。

　現在、高純度N2Oは川崎事業所と韓国で、高純度C4F8は川崎事業所と上海（SSE第一工場）で生産しているが、拡大する市場に対し安定供給などの対応力を高めるため、「地産地消」施策を進める。

　また中国では、年々化学品への規制が強化される中、中国上海に自社所有の高圧ガス危険物倉庫を確保・拡充することで、サプライチェーンの強化、競争力の向上を図る。

　また、半導体市場は、台湾でも同様に拡大が見込まれるため、現地製造子会社「台湾昭和化学品製造股份有限公司」においても高純度C4F8を年産150トン製造する設備を新設する（2020年春稼働予定）。今回の投資額は、上海・台湾を合わせ、約30億円。