信越化学工業は15日、半導体製造に不可欠なフォトレジストについて日本と台湾の製造拠点で、合計300億円の設備投資を行うと発表した。

　台湾子会社の信越電子材料では、2019年夏に第一期工事を終了しているが、既に新たな工場棟の建設を進めており、今回生産設備をさらに増強。2021年2月までの完成を目指す。

　直江津工場では、新たに建屋を建設し、能力増強を進める。2022年2月までの完成を目指す。

　信越化学は高感度のArFフォトレジストや、回路パターンの寸法精度を向上させる多層レジスト材料を開発し量産化。2019年7月に需要地の一つでもある台湾でフォトレジスト材料の生産を開始。生産拠点の複数化を実現して、供給安定性を高めてきた。

　今後、半導体デバイス市場の拡大、トランジスタ数の増大と省電力化のためのデバイスプロセスの進化による半導体関連材料の需要を取り込み、事業基盤の強化を進める。