AGCは25日、グループ会社のAGCエレクトロニクス（福島県郡山市）が、EUV露光用フォトマスクブランクス（以下：EUVマスクブランクス）の生産能力を増強すると発表した。

　2023年1月より生産を開始し、段階的に増強を行うことにより、AGCグループのEUVマスクブランクス生産能力は2024年に現在の約2倍となる。

　近年、半導体生産においてEUVプロセスは、ロジック向けに加えDRAMなどのメモリー向けにも採用が進んでいる。これに伴うEUVマスクブランクスの需要増に加え、次世代・次々世代半導体向けEUVマスクブランクスの出荷も見込まれることから、生産能力の増強を決定した。

　AGCは、2003年にEUV露光技術を用いた半導体生産プロセスで用いられるフォトマスクブランクスの研究開発に着手。自社で保有するガラス材料技術、ガラス加工技術、コーティング技術などを融合し技術開発を進め、2017年にEUVマスクブランクスの生産を開始している。