堀場製作所は20日、半導体事業を手掛けるグループ会社の堀場エステックが研究開発拠点である「京都福知山テクノロジーセンター」に新棟を増設すると発表した。

　京都福知山テクノロジーセンターは、最先端の半導体プロセスに対応する要素技術開発の強化を目指し、2013年12月に開設。

　今回、コア技術であるガス流量制御や液体気化技術の高度化と、次世代技術の強化を目的に新棟増設を決定した。同投資を通じて、堀場エステック本社の「HORIBA最先端技術センター」、ホリバ・インスツルメンツ社（アメリカ）の「HORIBA Reno Technology Center」と連携した3極での研究開発体制を強固なものとし、半導体事業の成長を加速させる。

　施設内では、流量標準技術の研究開発と実験エリアの拡大、流体計測制御の基礎要素技術の研究開発体制を強化することで多様なプロセスとアプリケーションに対応する。

　また、重要な領域である各種プロセスモニター評価が可能な実験室を新設し、既存製品の性能向上と新製品の開発を強化するほか、協業ラボスペースの新設により、次世代技術の実現を推進する。

　さらに、開放感あるエントランスと採光性の高いテラスなど、意匠と機能を融合したデザインの追求した。多目的なカフェテリアの設置により、快適な環境を提供し、意欲的な働き手になる環境を目指す。