サムコは17日、京都市伏見区の本社周辺に「第三研究開発棟（仮称）」を建設すると発表した。

　同社は1991年に設立した研究開発センター（京都市伏見区竹田田中宮町94番）で化合物半導体向けのCVD装置、ドライエッチング装置のプロセス開発を行ってきた。近年同社には化合物半導体の研究開発用装置だけでなく、生産用装置の要望が増加しており、2021年には電子デバイス製造向けクラスターツールシステム「クラスターH」の販売を開始した。

　新設する第三研究開発棟では、生産が本格化するSiCパワーデバイス、GaNパワー/RFデバイス、Ga As VCSEL、MEMS、高周波フィルターなどの分野で高度化するニーズに応えるため、最先端の設備を用意する約180㎡のクリーンルームはクラス1,000（米国連邦規格）の清浄度で、ポンプ類はバックヤードに設置し、パーティクルの発生を抑え、生産工場と環境を合わせる。

　加えて、最新の生産用装置や、走査電子顕微鏡(SEM)、膜厚計などの計測機器を刷新し、効率的かつスピーディな研究開発を進める。クラスターツールシステムの拡販のための開発を重点的に行い、生産工場への参入を狙う。また、計画的に増員を行い、顧客・マーケットのニーズに即応した開発体制で、同社の研究開発の中核拠点とする予定。現在の研究開発センターの機能は第三研究開発棟に移行する。

　第三研究開発棟開設後、現在の研究開発センターには旧式装置などを残し「研修センター」として製品のサポート・サービスのトレーニングを行う場として活用する。また、産学連携拠点として、大学・研究機関との連携なども検討している。