信越化学工業は9日、半導体露光材料事業の拡大に向け、同事業で四番目の拠点となる工場を群馬県伊勢崎市に建設すると発表した。

　半導体露光材料は、先端半導体の製造に不可欠な材料として需要が伸長しており、品質への要求も高度化し続けている。

　今回、顧客からの強い要請への対応やリスク分散を図るため、新工場の建設を決定した。新工場を半導体材料の先進拠点として位置付け、将来は研究開発を含む半導体露光材料や他の拠点として拡大させる計画。

　新工場への投資は段階的に実施する計画で、第一期の投資は2026年までの完工を目指す。投資額は第一期完工の段階で、事業用地約15万㎡の取得も含め約830億円を見込んでおり、全て自己資金で賄う。建設地については、複数の候補地を検討した結果、群馬県と伊勢崎市の斡旋も受け、同地を選定したとしている。

　同社は1997年にフォトレジスト事業を立ち上げ、直江津工場（新潟県）で当時の最先端のKrFフォトレジストの生産を開始。その後、フォトマスクブランクス、ArFレジスト、多層膜材料、EUVレジストなどの半導体露光材料を相次いで開発に成功し事業化してきた。2016年には同事業の第二の生産拠点を福井県に、2019年には第三の生産拠点を台湾雲林県に設けている。