三菱ケミカルグループは12日、三菱ケミカル九州事業所・福岡地区（福岡県北九州市）でフォトレジスト用感光性ポリマー「リソマックス」を増産すると発表した。

　フォトレジスト用感光性ポリマーは、半導体の回路パターンをウエハーに転写するフォトリソグラフィー工程で使用するフォトレジストの主成分となる樹脂。同社グループのリソマックスは、金属含有量や不純物が少ないため、半導体の回路の微細化にともなう高度な品質要求に対応できることから、多くのフォトレジストメーカーに採用されている。中でも、一層の微細化に不可欠なArFフォトレジストとEUVフォトレジストは日本企業が圧倒的なシェアを持ち、今後も市場成長が見込まれることから、原料であるリソマックスの需要も着実に拡大することが見込まれている。

　同社グループは現在、関東事業所・鶴見地区（神奈川県横浜市）でリソマックスを生産しているが、拡大する需要に対応するとともにサプライチェーンの強靭化を図るため、九州事業所・福岡地区に量産設備を新設する。これにより、ArFフォトレジスト用リソマックスは生産能力が2倍以上になるとともに、EUVフォトレジスト用リソマックスの初めての量産を開始する。