DIC（東京都中央区）は15日、100%子会社でフォトマスクなどの製造販売を行うトピック（埼玉県川口市）が、需要の拡大に対応するため、工場の新設と最先端描画装置の導入を決定したと発表した。

　装置を含めた投資金額約9億円となる新工場は、本社工場近隣で建設を進めており、2016年10月の稼動開始を予定している。

　フォトマスクは、回路基板に露光工程で回路パターンを転写する際などに使用するガラスなど透明な素材でできたパターン原版。家電やIT機器の高機能化にともない、基板も小型化や高集積化が進んでいることから、描線の微細化や精度の向上が求められている。

　フォトマスク市場は、スマートフォンやIoT、テレマティクスなどでの需要拡大や高機能化にともない、グローバルベースで2020年までに年率2-3%の成長が見込まれている。

　今回、製品の安定生産・品質向上のため、高機能なクリーンルームを設置するとともに、顧客が求める微細化と高精度を実現する最新鋭の描画装置を導入する。DICにおいても、プリンテッドエレクトロニクス分野など最先端領域の研究開発を加速するため、新技術棟の建設を総合研究所（千葉県佐倉市）で進めている。今後もグループ一体となり研究開発を進め、新製品開発・事業化を加速させる。